Titannitrid: Unterschied zwischen den Versionen
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Die Beschichtung der Gehäuse erfolgte im VEB Uhrenwerk Weimar. Grund für die Entwicklung bzw. den Einsatz dieser Technologie war das Einsparpotential bei Gold. Die Gehäuse wurden aus Gründen der Festigkeit mit einer Glanzvernickelung (10 Mikrometer) versehen und anschließend in der Vakuumanlage mit Titannitrid beschichtet (Physical-Vapour-Deposition - PVD-Beschichtung). Dieser Prozeß beruht auf dem Prinzip der Hohlkatodenbogenentladung. Zuerst erfolgt eine Oberflächenreinigung der Gehäuse durch Ionenbeschuß im Argonplasma. Dann wird Titan verdampft und gleichzeitig Stickstoff zugeführt. Es entsteht ein Metalldampfgasgemisch, das sich auf der Oberfläche der Gehäuse als Titannitrid abscheidet. | Die Beschichtung der Gehäuse erfolgte im VEB Uhrenwerk Weimar. Grund für die Entwicklung bzw. den Einsatz dieser Technologie war das Einsparpotential bei Gold. Die Gehäuse wurden aus Gründen der Festigkeit mit einer Glanzvernickelung (10 Mikrometer) versehen und anschließend in der Vakuumanlage mit Titannitrid beschichtet (Physical-Vapour-Deposition - PVD-Beschichtung). Dieser Prozeß beruht auf dem Prinzip der Hohlkatodenbogenentladung. Zuerst erfolgt eine Oberflächenreinigung der Gehäuse durch Ionenbeschuß im Argonplasma. Dann wird Titan verdampft und gleichzeitig Stickstoff zugeführt. Es entsteht ein Metalldampfgasgemisch, das sich auf der Oberfläche der Gehäuse als Titannitrid abscheidet. | ||
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Aktuelle Version vom 20. Juni 2015, 22:54 Uhr
Titannitrid
Seit 1984 wurden in der DDR Uhrgehäuse mit Titannitrid beschichtet. Vorher waren die Gehäuse galvanisch mit Gold überzogen. Das Verfahren und die Beschichtungsanlage wurden vom VEB Hochvakuum Dresden entwickelt.
Die Beschichtung der Gehäuse erfolgte im VEB Uhrenwerk Weimar. Grund für die Entwicklung bzw. den Einsatz dieser Technologie war das Einsparpotential bei Gold. Die Gehäuse wurden aus Gründen der Festigkeit mit einer Glanzvernickelung (10 Mikrometer) versehen und anschließend in der Vakuumanlage mit Titannitrid beschichtet (Physical-Vapour-Deposition - PVD-Beschichtung). Dieser Prozeß beruht auf dem Prinzip der Hohlkatodenbogenentladung. Zuerst erfolgt eine Oberflächenreinigung der Gehäuse durch Ionenbeschuß im Argonplasma. Dann wird Titan verdampft und gleichzeitig Stickstoff zugeführt. Es entsteht ein Metalldampfgasgemisch, das sich auf der Oberfläche der Gehäuse als Titannitrid abscheidet.