PVD/de: Unterschied zwischen den Versionen

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Abkürzung für ''Physical vapour deposition''
 
Abkürzung für ''Physical vapour deposition''
  

Version vom 9. März 2010, 01:21 Uhr

PVD

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Abkürzung für Physical vapour deposition

Physical vapour deposition (deutsch: Gasphasenabscheidung) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, bei denen im Gegensatz zu CVD-Verfahren die Schicht direkt durch Kondensation eines Materialdampfes des Ausgangsmaterials gebildet wird.