PVD/de: Unterschied zwischen den Versionen
Zur Navigation springen
Zur Suche springen
| Zeile 1: | Zeile 1: | ||
'''PVD''' | '''PVD''' | ||
| − | + | {{Andere Sprachen|[[PVD/de|de]]|[[PVD/ru|ru]]}} | |
Abkürzung für ''Physical vapour deposition'' | Abkürzung für ''Physical vapour deposition'' | ||
Version vom 9. März 2010, 02:21 Uhr
PVD
| andere Sprachen: de ru |
Abkürzung für Physical vapour deposition
Physical vapour deposition (deutsch: Gasphasenabscheidung) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, bei denen im Gegensatz zu CVD-Verfahren die Schicht direkt durch Kondensation eines Materialdampfes des Ausgangsmaterials gebildet wird.