PVD/de: Unterschied zwischen den Versionen
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Aktuelle Version vom 21. Juni 2015, 02:12 Uhr
PVD Abkürzung für Physical vapour deposition
Physical vapour deposition (deutsch: Gasphasenabscheidung) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, bei denen im Gegensatz zu CVD-Verfahren die Schicht direkt durch Kondensation eines Materialdampfes des Ausgangsmaterials gebildet wird.